司法部、国家知识产权局负责人就《集成电路布图设计保护条例》修订答记者问|林政辛

1. 林政辛是什么意思

2. 林政辛功能介绍

3. 林政辛使用方法

4. 林政辛使用教程

5. 林政辛最新版本

6. 林政辛官方入口

7. 林政辛下载安装

8. 林政辛常见问题

9. 林政辛注意事项

10. 林政辛相关资讯

　　新华社北京8月3日电 题：司法部、国家知识产权局负责人就《集成电路布图设计保护条例》修订答记者问

　　新华社记者

　　2026年7月23日，国务院总理李强签署第842号国务院令，公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》(以下简称《条例》)，自2026年10月15日起施行。日前，司法部、国家知识产权局负责人就《条例》有关问题回答了记者提问。

　　问：请简要介绍一下《条例》的修订背景。

　　答：党中央和国务院高度重视新兴领域知识产权保护工作。现行条例于2001年公布施行，对保护集成电路布图设计专有权、鼓励集成电路技术创新发挥了积极作用。随着集成电路技术和产业快速发展，为更好地满足实践需要，有必要修订现行《条例》。

　　问：修订《条例》的总体思路是什么？

　　答：修订《条例》遵循以下总体思路：一是贯彻落实党中央和国务院关于加强知识产权法治保障的决策部署，强化集成电路布图设计保护和运用。二是聚焦当前突出问题，完善集成电路布图设计登记、保护和管理有关制度，将实践中行之有效的做法上升为行政法规。三是与有关法律法规、国际条约做好衔接。

　　问：《条例》在完善申请、审查程序方面作了哪些规定？

　　答：一是规定布图设计登记申请应当以真实创作活动为基础，不得弄虚作假。二是增加独创性声明要求，并规定提交的复制件或者图样应当清楚地显示该布图设计具有独创性的部分。三是明确申请登记的布图设计明显不符合本条例规定的，应当驳回；布图设计获准登记后，任何人发现该登记不符合本条例规定的，可以请求撤销；登记被撤销的，该布图设计专有权视为自始即不存在。四是规定当事人因不可抗拒的事由或者其他正当理由延误本条例规定或者国务院知识产权行政部门指定的期限导致其权利丧失的，可以请求恢复其权利。

　　问：《条例》在加强专有权保护方面作了哪些规定？

　　答：一是规定受保护的布图设计以登记的复制件或者图样所显示的为准，独创性声明可以用于解释布图设计的独创性。二是规定侵权赔偿额按照权利人受到的实际损失或者侵权人获得的利益确定；难以确定的，参照许可使用费的倍数合理确定；情节严重的，适用惩罚性赔偿。

　　问：《条例》在促进布图设计运用方面作了哪些规定？

　　答：一是强调国务院知识产权行政部门应当会同有关部门采取措施，加强公共服务，促进布图设计运用。二是规定法人或者非法人组织主持创作布图设计，应当依照促进科技成果转化法等，对符合条件的人员给予合理的奖励和报酬。三是完善转让、许可、出质要求。四是规定共有人对权利的行使有约定的从其约定；许可他人使用该布图设计收取的使用费应当在共有人之间分配。

　　问：《条例》施行后，需要重点做好哪些工作？

　　答：国家知识产权局将和有关部门共同做好《条例》的贯彻实施工作。一是加大宣传解读力度。针对《条例》专业性比较强的特点，采取多种形式做好《条例》的解读、宣传和培训工作，引导公众准确理解《条例》内容。二是抓紧完善配套制度。统筹推进《条例》配套部门规章、规范性文件修改工作，保障修订后的《条例》顺利实施。三是切实抓好贯彻实施工作。认真落实《条例》规定，强化集成电路布图设计保护和运用。